前提条件是注册浸没式光刻技术专利，再拿出浸没式光刻技术，控股尼康公司？
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不过，李飞一想，这样的是不是便宜了尼康公司…
可是又转念，将来大深市芯片产业有限公司研发光刻机，是需要大量的专利，而这些专利技术掌握在尼康和asml手里，
如果要想造光刻机，是绕不开尼康和asml，这两家公司在光刻机布下的专利。
把浸没式光刻技术专利授权给尼康，是一个比较现的情况。
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另外，光刻机技术真是太复杂了…，并且，每一个零件都是精密的…。
光刻机真的是复杂…
如果说现在拿出浸没式光刻技术，并获得尼康公司，或者asml的股份，并且，在光刻技术上，有大深市芯片产业有限公司的专利，
这样的话，就不用担心芯片制造的问题，因为大深市芯片产业有限公司，与尼康公司，或者说asml公司已经是在商业技术上捆绑在一起…。
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同时，需要说明的是，浸没式光刻技术是林本坚在2002年发明的，其技术原理就是，利用光通过液体介质后光源波长缩短来提高分辨率，其缩短的倍率即为液体介质的折射率，
因为沉浸式光刻技术是在传统的光刻技术中，其镜头与光刻胶之间的介质是空气，而浸入式技术是将空气介质换成液体。
这样的话，就称为193nm浸入式光刻技术，因为之前，都是采用，采用的是193nm干式光刻技术，但在65纳米技术节点上遇到了困难，试验了很多技术（如157nm干式光刻技术等）但都无法很好的突破这一难题。
2002年底浸入式技术迅速成为光刻技术，才解决了以上的技术难点…。
不过，需要说明的是，自从asml使用了浸没式光刻技术，其光刻机迅速地占领全球80%市场，而尼康光刻机从此没落…。