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第300章 芯片试生产和流片(3/4)(3 / 3)

这样的良品率就足够吊打很多芯片制造生产线,良品率的提高,除了设备先进之外,减少外物的干扰也是重中之重。

时间悄然来到上午九点,生产线上的各种设备从待机状态陆续进入工作状态。

等到所有机器都处于工作状态的时候,工人将晶圆投入到湿洗设备里面,开始自动用各种试剂保证晶圆表面没有任何杂质。

这个环节过后,晶圆自动被送入到光刻环节,晶圆在这个过程中,不以任何设备发生接触,晶圆处于磁悬浮托盘当中。

然后在悬浮状态进行光刻,一张晶圆的光刻速度只需要12秒,速度是非常快的,光刻完之后,就自动被送入到离子注入设备当中。

后面经过干蚀刻、湿蚀刻、等离子冲洗、热处理(包括快速退火、退火、热氧化)、化学气相沉淀、物理气相沉淀、分子束外延、电镀处理、化学/机械表面处理。

到这一步算是接触了晶圆测试之前的所有环节,晶圆测试之后,就进入晶圆打磨环节,之后就可以出厂了。

虽然环节说起来简单,但是一片晶圆要完成所有的环节,绝不是一天时间能够完成的,一般需要30天左右。

叶子书设计的芯片生产线,由于工艺流程做过优化,各种设备也是高度自动化,依然需要20天时间。

所以流片的时候,叶子书安排每种通信芯片只制造10片晶圆,然后自动切换到下一种芯片的制造。

这样等到20天之后,就可以知道各种芯片的流片结果,流片通过就意味着芯片设计没有任何问题,可以进入正式生产阶段。

同时也可以得出芯片生产线的良品率是多少,不过他已经在虚拟实验室做过测试,对此不是很担心。

在芯片生产工厂又待了一天时间,出来之后,叶子书对武超强说道:“目前来看,运行非常良好,你们继续盯着,我就不再继续将时间耗在这里了。”

叶子书时间比较宝贵,不可能花费20天时间,一直耗在这边等结果,完全没有必要,所以准备明天就直接飞回首都。

一旁的任正非也跟着说道:“明天我也跟着你回去吧,这里就麻烦武总以及各位工程师了。”

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