既然到了台湾，蔡致良与顾远德，廖成凯也礼节性地拜访了工研院。
曾经力微电子改名之前，同工研院还是有一段蜜月期的，共同研究1M技术，奈何人多心不齐，难以协调一致，直到后来蔡致良终于意识到，从力微电子试图主导台湾DRAM技术开发的那一刻起，就注定了这样的结局。
直到去年年初，力微电子与工研院分道扬镳，分歧在于理念难以调和。工研院在美国顾问的建议下，启动“次微米制程技术发展五年计划”，按部就班地开发4M，16M技术，而力微电子在获得日本4M技术授权之后，直接向16M技术发起挑战。毕竟因为摩尔定律的存在，你只有更快，才能够在这个行业生存。
而4M的技术，因为日本经济的崩溃，只要花钱，毕竟早在1989年，日本就已经授权给韩国现代，再加上力微电子，台湾企业获取授权不难。
但是从工研院的角度看，一方面台湾的DRAM生产厂，除了力微电子，规模都比较小，近两三年一直处于亏损状态，而且每年数百万美元的授权费用不是一笔小数目，而另一方面，直接研究16M技术，无疑会面临重大的风险，毕竟当时只有日本具备量产
DRAM的能力，就连韩国三星也尚未推出16M的样品，只能望而却步。
说到底，相较于其他DRAM工厂，力微电子的抗风险能力要强的多，亏的起，也能够付得起每年的技术授权费。也因为蔡致良的金手指，对未来的形势了如指掌，在获得日本4MJ技术授权之后，通过收购日本半导体研究公司和挖人，也获取了部分16M技术专利，坚定了力微电子开发16M技术的信念。
这次发展理念的分歧，也是力微电子转向新加坡的导火索，因为这就是一个无底洞，蔡致良也缺钱了。
不过，力微电子也参与了台湾的“次微米制程技术发展五年计划”，仅限于0.5微米的制造技术。
近一年半的时间，在卢超群博士的协调下，勉强拧在一起技术团队尚未能攻克4M技术。虽说时间较短，但距离日本NEC开始量产4M存储芯片，已经过去5年，而距离日本NTT展示出全球第一块
DRAM样品也已经过去4年了。
时不我待，等台湾研发出4M技术的时候，也已经落后许多了。而即便是蔡致良也不敢掉以轻心，在
DRAM成功之后，立即马不停蹄地启动64M技术的研发，寄希望于尽快抹平与日韩之间的技术差异。
难得来一次，除了工研院，蔡致良也去访问了台积电，从最初的投资之后，通过陆续运作，他的股份已经增长至4.38%。同力微电子活在日韩半导体公司的阴影中一样，台积电现在也处于英特尔的阴影中。
而鉴于台积电与力微电子之间的非竞争关系，在制造设备与技术，原材料方面可以开展必要的合作，重点在于制造技术，现阶段正可以报团取暖，以避免重复投资。当然，合作的基础在于对彼此实力的认可。这就是顾远德和廖成凯的下一步工作，拿出具体的方案，而蔡致良需尽快返回香港，因为赵宝秀和霍昕昕即将离开香港。